NS-3500 Solar 是一種可靠的(de)半導(dao)體晶(jing)(jing)圓檢(jian)測系統(tong)，通過快(kuai)速光(guang)學掃(sao)描模(mo)塊(kuai)和信號處(chu)理算法實現實時共焦顯微圖(tu)像。在測量和檢(jian)測微觀三維(wei)結(jie)構，可以為半導(dao)體晶(jing)(jing)片，FPD產品(pin)，MEMS設備(bei)，玻璃基(ji)板(ban)，材(cai)料表(biao)面等(deng)提供各種解(jie)決方案(an)。

Features & Benefits（性能及優(you)勢）：

• 高(gao)分辨無損傷光學(xue)3D測量                               自動傾斜補償

• 實時共焦成像                                                 簡單的數據(ju)分析模式

• 多種光學變焦                                                 雙Z掃描

  大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

• 實時CCD明場和共聚焦成像                            無(wu)樣品準備

• 自(zi)動聚焦(jiao)

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Application field（應用(yong)領域）：

NS-3500是測(ce)量低維材料(liao)的有前途的解決方(fang)案。

可測量微米和亞(ya)微米結(jie)構的高度，寬度，角度，面積和體積，例(li)如

-半導體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷(xian)檢(jian)測，CMP工藝

- FPD產品:觸摸屏(ping)屏(ping)幕檢測(ce)，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jie)構(gou)三維(wei)輪廓(kuo)，表(biao)面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃(li)表(biao)面:薄膜太陽能(neng)電池，太陽能(neng)電池紋(wen)理，激光(guang)圖案

-材料研究:模具表(biao)面(mian)檢測，粗糙(cao)度，裂紋分析

Specifications(規格）:

              

注(zhu)1:精細掃描由壓電執行器（PZT）執行。

注(zhu)2 :以100×/ 0.95物鏡對(dui)標準(zhun)樣品（步(bu)長1μm）進行100次測量。