NS-3500 Solar 是一種可(ke)(ke)靠(kao)的半導體晶圓檢(jian)測系統，通(tong)過(guo)快速光學掃描模塊(kuai)和(he)(he)信號處理(li)算法(fa)實現(xian)實時共焦(jiao)顯微圖像。在測量和(he)(he)檢(jian)測微觀三維結(jie)構，可(ke)(ke)以為(wei)半導體晶片，FPD產品，MEMS設(she)備，玻璃基(ji)板，材料表(biao)面等提供各種解決方(fang)案。

Features & Benefits（性能及優(you)勢）：

• 高分(fen)辨無損傷(shang)光學3D測量                               自動傾斜補(bu)償

• 實時共焦成像                                                 簡單(dan)的數據分析模式

• 多種光學變焦                                                 雙Z掃描(miao)

  大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

• 實時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品(pin)準備

• 自(zi)動(dong)聚焦

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Application field（應用領域(yu)）：

NS-3500是(shi)測量低維材料的有前途的解(jie)決方案。

可(ke)測量(liang)微(wei)米(mi)和(he)亞微(wei)米(mi)結構的(de)高(gao)度，寬度，角度，面積(ji)和(he)體積(ji)，例如

-半(ban)導體:IC圖(tu)形，凹凸高(gao)度，線圈高(gao)度，缺陷檢測，CMP工藝

- FPD產品:觸(chu)摸屏(ping)屏(ping)幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度(du)

- MEMS器件:結構三(san)維輪(lun)廓(kuo)，表(biao)面粗糙度，MEMS圖形(xing)

-玻璃(li)表面:薄(bo)膜太(tai)陽能電(dian)池，太(tai)陽能電(dian)池紋理(li)，激光圖(tu)案(an)

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析

Specifications(規格）:

             

注1:精細掃描由壓電執行器（PZT）執行。

注2 :以100×/ 0.95物鏡對(dui)標準(zhun)樣(yang)品(pin)（步(bu)長1μm）進行(xing)100次(ci)測量。