NS-3500是(shi)一種可靠的三維(wei)(3D)測(ce)量(liang)高速共焦(jiao)激光掃(sao)(sao)描(miao)顯(xian)微鏡(CLSM)。通過快速光學掃(sao)(sao)描(miao)模塊和信(xin)號(hao)處(chu)理算(suan)法實(shi)(shi)現實(shi)(shi)時共焦(jiao)顯(xian)微圖(tu)像(xiang)。在測(ce)量(liang)和檢測(ce)微觀三維(wei)結構，如半導體(ti)晶片，FPD產品(pin)，MEMS設備，玻璃基板，材(cai)料表面等方(fang)面擁有多種解決(jue)方案。 

Features & Benefits（性能及優(you)勢）：

• 高(gao)分辨無損(sun)傷光(guang)學(xue)3D測量(liang)                               自動傾斜補(bu)償(chang)

• 實時共焦成像                                                 簡單的數據分析(xi)模式

• 多種光學變焦                                                 雙Z掃描(miao)

  大范圍拼接                                                    半(ban)透明基材的特征檢測

• 實時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準備

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Software (軟(ruan)件）：

Application field（應(ying)用領(ling)域）：

NS-3500是(shi)測量低維材料的(de)有(you)前途的(de)解決方案。

可測量微米和亞(ya)微米結構的高(gao)度(du)，寬(kuan)度(du)，角(jiao)度(du)，面(mian)積(ji)(ji)和體積(ji)(ji)，例(li)如

-半導體(ti):IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工藝

- FPD產品:觸摸(mo)屏屏幕檢(jian)測，ITO圖(tu)案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓(kuo)，表面粗糙(cao)度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄(bo)膜太陽能電(dian)池，太陽能電(dian)池紋理，激光圖(tu)案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析

Specification (規格(ge)）：

精細和長(chang)距離掃描儀的(de)雙重掃描模式(shi)僅(jin)適用于NS-3500-S（單(dan)鏡(jing)頭類型）。                

注1:精細掃描由壓電執(zhi)行器（PZT）執(zhi)行。

注2 :以100×/ 0.95物(wu)鏡(jing)對標準樣(yang)品（步長1μm）進行100次(ci)測量(liang)。      

注 3 :以(yi)100×/ 0.95物鏡對標準(zhun)樣品(pin)（5μm間距）進行100次(ci)測量(liang)。